腦皮層厚度測量及其應用.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、大腦皮層是大腦的表層部分,是我們意識活動的物質(zhì)基礎,研究表明,隨著大腦的發(fā)育和老化,以及病理改變,皮層厚度在相應區(qū)域會呈現(xiàn)出顯著的變化,即皮層厚度在一定程度上表征了腦組織的發(fā)育和老化情況,并與神經(jīng)衰退等方面的疾病相關聯(lián)。隨著MR 圖像分辨率的提高和圖像處理分析技術的發(fā)展,基于MR圖像的腦皮層厚度無創(chuàng)測量已經(jīng)成為研究疾病發(fā)生發(fā)展的重要基礎性研究工作。
   本文提出了一種將SPM(Statistical Parametric Ma

2、pping)軟件、拉普拉斯方程厚度測量方法、厚度較正算法相結合,完成三維MR 圖像的分割、腦皮層厚度測量和在全腦范圍內(nèi)分析厚度值的方法,研制了計算機程序,并對程序進行了可靠性驗證。隨著各國自然災害、突發(fā)事件、個人創(chuàng)傷性遭遇的發(fā)生越來越多,創(chuàng)傷后應激障礙(post traumatic stress disorder,PTSD)患者逐年增多。分析PTSD 患者腦皮層容積和厚度的變化,對于揭示大腦皮層由于應激障礙可能引起的形態(tài)學變化具有重要意

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