間接印模法與直接印模法在種植修復(fù)中的應(yīng)用研究.pdf

1、目的:比較間接印模法和直接印模法對修復(fù)體適合性的影響，探討直接印模法在種植修復(fù)中應(yīng)用的可行性。
　　 方法:于青島大學(xué)醫(yī)學(xué)院附屬醫(yī)院口腔科選取符合以下條件的志愿者20例:①單顆牙缺失，已植入osstem GSⅡ種植體，擬行修復(fù)的患者。②種植體植入?yún)^(qū)牙齦健康，基臺安裝后其肩臺可經(jīng)磨改使其平齊齦緣或位于齦緣下0.5-1.0mm處，經(jīng)排齦使肩臺清晰顯露。然后分別應(yīng)用間接印模法和直接印模法制取模型，記為A1、B1組，A1組應(yīng)用間接印模法

2、安裝基臺并磨改后制作金屬基底冠，B1組在石膏模型上制作蠟型通過包埋、鑄造完成金屬基底冠，分別記為A2、B2組。分別將A2、B2組基底冠安裝于基臺上，檢測其是否完全就位;應(yīng)用改良的Modified USPHS標(biāo)準(zhǔn)對基底冠進行邊緣適合性的評價;采用硅橡膠印模法復(fù)制基底冠與基臺之間的微間隙模型，將模型修整后沿近遠(yuǎn)中向剖開，在掃描電鏡下測量微間隙的厚度。
　　 結(jié)果:
　　 1.基底冠的回位率:
　　 A2（間接印模法模

3、型組）、B2（直接印模法模型組）兩組基底冠均能順利地就位到基臺上，冠回位率均達(dá)到100％。
　　 2.基底冠邊緣適合性的評價:
　　 A2組（間接印模法模型組）適合性評價結(jié)果:達(dá)到A級的共有18例(90％)，達(dá)到B級的共有2例(10％)，測試結(jié)果為C級的有0例，D級的有0例;
　　 B2組（直接法模型組）適合性評價結(jié)果:達(dá)到A級的共有17例(85％)，測試結(jié)果達(dá)到B級的共有3例(15％)，測試結(jié)果為C級的有0例，

4、D級的有0例。
　　 我們通過統(tǒng)計學(xué)分析中的非參數(shù)秩和檢驗得出:制作的兩組基底冠的邊緣適合性評價的差異沒有統(tǒng)計學(xué)意義(P＞0.05)。
　　 3.基底冠與基臺間適合性的測定
　　 3.1基臺與基底冠間的軸面適合性:
　　 A2組（間接印模法模型組）為38.1±0.25μ m，B2組（直接印模法模型組）為40.2±0.45μm，兩組數(shù)據(jù)的比較無統(tǒng)計學(xué)意義(P＞0.05)。
　　 3.2基臺與基底冠間