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1、湖南大學(xué)碩士學(xué)位論文電沉積FeNiW合金工藝及結(jié)構(gòu)的研究姓名:詹厚芹申請學(xué)位級別:碩士專業(yè):分析化學(xué)指導(dǎo)教師:何鳳姣20080625AbstractInrecentyears,electrodepositedtungstenalloydepositswereregardedasoneofpotentialchromiumsubstitutesformanyoftheirexcellentproperties,suchasdecorati
2、veappearance,highthermalstabilityhighhardness,goodwearandcorrosionresistanceanditspotentialengineeringapplicationsComparedwithchromiumplating,thereweremanyadvantagesinelectrodepositionoftungstenalloydeposits,forexample,h
3、ighcurrentefficiencygoodthrowing,coveringpowerandenvironmentlyfriendlySo,rencentlytherewereextensiveinterestintheelectrodepositionoftungstenalloydepositsFewreportsabouttheelectrodepositionandtheirpropertiesofFeNiWalloyde
4、positswerepresentedInthisthesis,followingresearchwerestudiedindetail1EIectrodepositionandmechanismofFeNi—WalloydepositsinaqueoussolutionwerediscussedCVmethodswereusedtominitottheprocessofdepositionofmetalionsTheeffectsof
5、bathcompositionandprocessontheappearancecomposition,andcathodecurrentefficiencyofFe—NiWalloydepositswerestudiedcomprehensivelyforthefirsttimeAndthattheWcontentinthedepositwasfoundtoincreasewithanincreaseironion,citrateco
6、ncentrationinthebath,cathodecurrentdensityandtemperatureCompositionofdepositswasInfluencedbypHvalueofbathThetungstencontenthasamaximumvalueatpH62TheelectrodepositiontechnologyofthenanocrystallineNiFeWalloyshavebeenputfor
7、wardThenanocrystallineWalloyexhibitexcellentcorrosionresistancesandhighermicrohardnesswithoutannealingandcanbeasubstituteforchromeplating3Theeffectsofoperatingconditionsandcoplexesontheappearance,depositionrate,structure
8、andmicrohardnessofFeNi—WalloydepositswerestudiedcomprehensivelyfofthefirsttimeWedrawtheappropriaterangefortheelectroplatingamorphousalloyprocessconditions:thepHvaluewas510,thetemperaturewasabove40℃,andthecurrentdensitywa
9、sabove6A/din‘4TheeffectsofCu“,Zn“inthesolutionontheappearance,composition,depositionrate,structure,andmicrohardness,corrosionresistanceofFe—Ni—WalloydepositswerediscussedinthefirsttimeTheresultsshowedthatthecopperionsina
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