恒功率超高壓汞燈電源控制技術(shù).pdf

1、在微電子光刻工藝中，光源的穩(wěn)定性直接影響著基片的曝光量，隨著集成電路和各類微電子元器件集成度的不斷提高，對光源的穩(wěn)定度提出了更高的要求。研制高性能的恒功率超高壓汞燈電源，可以有效提高光強穩(wěn)定度，實現(xiàn)曝光量的精確控制。本課題源自中國電子科技集團公司第四十五研究所承擔(dān)的縱向課題特種器件雙面曝光機的一項關(guān)鍵技術(shù)：恒功率超高壓汞燈電源的研制。 本文分析了超高壓汞燈的電氣特性以及對電源的特殊要求，提出用模擬乘法器將電壓、電流信號轉(zhuǎn)變?yōu)楣β?/p>

2、信號，通過脈寬控制(PwM)技術(shù)實現(xiàn)汞燈恒功率控制的總體方案。 進行恒功率汞燈電源的設(shè)計，將模擬乘法器、電流滯洄比較器應(yīng)用于脈寬控制電路，實現(xiàn)了對汞燈的恒功率控制和啟動電流的限制。 對電源系統(tǒng)進行可靠性設(shè)計，提出了提高功率穩(wěn)定精度和系統(tǒng)可靠性的具體措施，保證了電源系統(tǒng)的功率穩(wěn)定度和可靠性。 對電源系統(tǒng)進行測試分析，驗證了設(shè)計思想和技術(shù)指標(biāo)；測試結(jié)果表明，技術(shù)指標(biāo)完全達到了設(shè)計要求。 本課題研制的特種器件雙