氧化錫系低輻射薄膜玻璃的制備及性能研究.pdf

1、本文以氯化亞錫（SnCl2·2H2O）為出發(fā)原料，三氯化銻（SbCl3）、三氟乙酸（C2HO2F3）為摻雜劑，無水乙醇（CH3CH2OH）為溶劑，制備了摻雜的氧化錫系溶膠，并結(jié)合噴霧熱解法制備了大面積低輻射鍍膜玻璃。采用XRD、SEM、光學(xué)顯微鏡等測(cè)試手段，對(duì)薄膜的結(jié)構(gòu)、表面形貌、成分等性質(zhì)進(jìn)行檢測(cè)，并結(jié)合理論與制備工藝的實(shí)驗(yàn)經(jīng)驗(yàn)，深入分析噴霧熱解法的成膜機(jī)制，揭示制備工藝、薄膜微結(jié)構(gòu)、性能三者之間的關(guān)系，得出以下結(jié)論：1．在噴霧熱解法

2、沉積制備大面積低輻射鍍膜玻璃的過程中，各種工藝參數(shù)通過對(duì)成膜機(jī)制的影響，進(jìn)而對(duì)薄膜的性能產(chǎn)生影響。而對(duì)成膜機(jī)制的影響又可概括為霧滴大小、粒度分布和基板溫度三個(gè)因素，它們對(duì)霧滴的干燥行為，表面缺陷的產(chǎn)生和生長(zhǎng)過程起作用，從而最終決定薄膜的性能。2．在溶膠中主組元摩爾比為Sn：Sb：F=1：0.04：0.5時(shí)，最優(yōu)的薄膜制備參數(shù)為：基板溫度550℃，液壓=1.1bar，氣壓=3.5bar，槍距=390mm，抽風(fēng)量50％，噴槍移動(dòng)速度=2cm

3、/s。3．在最優(yōu)制備參數(shù)下制得的標(biāo)準(zhǔn)樣品為四方相金紅石型多晶結(jié)構(gòu)，厚度288nm左右。膜表面由棱錐狀的致密顆粒組成，顆粒尺寸為60～80nm，呈隨機(jī)分布。4．通過檢測(cè)及基于國(guó)標(biāo)的計(jì)算，得出標(biāo)準(zhǔn)樣品的薄膜方阻達(dá)25Ω/□，電阻率為7.5×10-4Ω·cm，平均可見光透過率為77.5％，輻射率e為0.204，傳熱系數(shù)U3.9W/m2·K，陽(yáng)光能量獲得率SHGC0.703，遮陽(yáng)系數(shù)SC0.813。通過簡(jiǎn)單工藝制備出的大面積低輻射玻璃通過了國(guó)家