版權(quán)說(shuō)明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)
文檔簡(jiǎn)介
1、準(zhǔn)LIGA技術(shù)由于其成本低、加工過(guò)程簡(jiǎn)便而倍受微加工制造行業(yè)的高度關(guān)注。本論文利用激光的高方向性和脈沖的可控性,分別采用Nd:YAG二倍頻(532 nm)、三倍頻(355 nm)脈沖激光對(duì)SU-8膠進(jìn)行曝光實(shí)驗(yàn),研究高深寬比、曝光精確可控的Laser-LIGA新技術(shù),主要內(nèi)容包括:兩種不同波長(zhǎng)的脈沖激光曝光SU-8膠后產(chǎn)生的光化學(xué)變化、脈沖曝光光刻的工藝過(guò)程、以及提高光刻深寬比和曝光劑量精確可控的技術(shù)途徑。 1、對(duì)經(jīng)過(guò)532 n
2、m激光曝光后的SU-8膠進(jìn)行了X射線光電子能譜(XPS)分析,對(duì)比結(jié)果顯示沒(méi)有發(fā)生分子結(jié)構(gòu)上的變化,F元素的摩爾含量亦未減少。表明532 nm光子與光引發(fā)劑未產(chǎn)生酸催化反應(yīng),由此斷定曝光未導(dǎo)致分子間的環(huán)氧環(huán)交聯(lián),故532 nm激光不宜用作SU-8膠曝光光刻光源。這一結(jié)論在曝光光刻制備微結(jié)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)中已進(jìn)一步得到證實(shí)。 2、將355 nm激光曝光的實(shí)驗(yàn)樣品進(jìn)行XPS分析,結(jié)果顯示F元素的含量大大降低,C元素及O元素的中心峰位置基本沒(méi)
3、有發(fā)生移動(dòng),即元素的主要價(jià)態(tài)沒(méi)有發(fā)生變化。F元素的含量降低表明355 nm光子與光引發(fā)劑可能發(fā)生了酸催化反應(yīng)而生成催化劑HSbF2;而C、O元素的價(jià)態(tài)沒(méi)有變化表明除酸催化反應(yīng)外沒(méi)有發(fā)生其它化學(xué)反應(yīng)。為了進(jìn)一步證實(shí)這一結(jié)論,我們對(duì)同一樣品進(jìn)行了傅立葉變換紅外光譜(FT-IR)分析,結(jié)果顯示:在環(huán)氧基對(duì)應(yīng)的914 cm-1、862 cm-1峰處,吸收峰強(qiáng)明顯降低;在C-H鍵對(duì)應(yīng)的972 cm-1峰處,峰強(qiáng)也相應(yīng)降低。這就表明,曝光后環(huán)氧基發(fā)
4、生了分解,化學(xué)鍵發(fā)生變化的位置主要集中在環(huán)氧環(huán)上,即:曝光區(qū)原單分子中環(huán)氧基上的環(huán)氧環(huán)斷開(kāi),與鄰近分子的環(huán)氧環(huán)相互交聯(lián)成長(zhǎng)鏈分子并形成網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。因此,證明了355 nm激光曝光SU-8膠進(jìn)行光刻微結(jié)構(gòu)制備在機(jī)理上是完全可行的。 3、在機(jī)理分析的基礎(chǔ)上,對(duì)355 nm脈沖激光曝光光刻工藝進(jìn)行了研究,包括膠的黏度系數(shù)和膠厚與顯影時(shí)間、曝光劑量與光刻深度等之間的依賴關(guān)系。結(jié)果表明,曝光深度與單脈沖能量呈非線性變化,而與曝光脈沖數(shù)呈線性
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無(wú)特殊說(shuō)明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒(méi)有圖紙預(yù)覽就沒(méi)有圖紙。
- 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫(kù)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
- 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 紫外激光曝光光刻SU-8膠的工藝研究.pdf
- SU-8光刻膠超聲時(shí)效的實(shí)驗(yàn)研究.pdf
- SU-8膠光刻模擬.pdf
- 基于Su-8光刻膠的微透鏡及陣列的研究.pdf
- SU-8膠接觸式UV光刻模擬.pdf
- SU-8膠紫外光刻理論與實(shí)驗(yàn)研究.pdf
- SU-8膠深紫外光刻模擬.pdf
- 基于SU-8光刻膠的光纖加速度傳感器的研究.pdf
- 基于三維線算法的SU-8膠光刻模擬.pdf
- 光刻概況及光刻前沿技術(shù)探討——光刻膠的研究.pdf
- 光刻膠講義
- 光刻膠制備工藝技術(shù)
- 基于SU-8紫外光刻工藝的直流微電鑄技術(shù)研究.pdf
- 曲表面光刻膠涂覆技術(shù)研究.pdf
- SU-8光刻工藝和DEM技術(shù)中塑料深層刻蝕工藝研究.pdf
- 紫外脈沖激光刻蝕數(shù)學(xué)模型研究.pdf
- 后段干法去除光刻膠工藝研究.pdf
- 金屬材料脈沖激光刻蝕微加工的基礎(chǔ)研究.pdf
- 新型紫外納米壓印光刻膠的研究.pdf
- 耐高溫紫外正型光刻膠和248nm深紫外光刻膠的研制.pdf
評(píng)論
0/150
提交評(píng)論