磁控濺射MoS-,2--WS-,2-復(fù)合薄膜的制備及其摩擦學(xué)性能研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩68頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、隨著現(xiàn)代科技的進(jìn)步,很多潤滑環(huán)境下的潤滑已經(jīng)超過了一般流體潤滑材料的極限,為解決高負(fù)荷、高真空、超低溫、強輻射和強腐蝕等特殊工況下的潤滑,固體潤滑材料正受到越來越多的重視。MoS2薄膜和WS2薄膜作為固體潤滑劑,已經(jīng)廣泛應(yīng)用于真空環(huán)境中,但是在大氣環(huán)境下,特別是潮濕的環(huán)境中,薄膜的潤滑性能會降低。研究表明納米復(fù)合薄膜在大氣環(huán)境中相對于單一薄膜具有更好的摩擦學(xué)性能。為了改善單一薄膜在大氣中的摩擦學(xué)性能,本文采用磁控濺射MoS2/WS2復(fù)合

2、靶和共濺射純MoS2靶和純WS2靶制備MoS2/WS2復(fù)合薄膜,研究了不同的工藝參數(shù)對復(fù)合薄膜微觀結(jié)構(gòu)和摩擦磨損性能的影響,并對復(fù)合薄膜和純MoS2薄膜的結(jié)構(gòu)和性能進(jìn)行了對比。主要研究內(nèi)容如下: 采用MoS2和WS2雙靶共濺射的方法制備了MoS2/WS2納米復(fù)合薄膜,使用X—射線衍射儀(XRD),能譜儀(EDS),掃描電子顯微鏡(SEM)對薄膜的成分和結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析。采用HH-3000薄膜結(jié)合強度劃痕試驗儀,納米壓痕測試系統(tǒng),UM

3、T-2摩擦磨損試驗機對薄膜進(jìn)行機械性能和摩擦磨損性能分析。結(jié)果表明,MoS2/WS2復(fù)合薄膜為納米級復(fù)合膜,膜的表面是由尺寸為50nm~100nm的顆粒組成,但是顆粒要比純MoS2薄膜要小(大于200nm),因此復(fù)合薄膜要比單一薄膜更致密。在大氣環(huán)境中,MoS2/WS2復(fù)合薄膜摩擦學(xué)性能要優(yōu)于純MoS2薄膜。 在不同的實驗載荷下測試了薄膜的摩擦性能,結(jié)果表明:實驗載荷越大,薄膜的摩擦系數(shù)越低,摩擦穩(wěn)定性隨著載荷的增加變化不大。比

4、較了MoS2/WS2復(fù)合薄膜和純MoS2薄膜在大氣環(huán)境中的摩擦學(xué)性能,在大氣環(huán)境中,MoS2/WS2復(fù)合薄膜摩擦學(xué)性能要優(yōu)于純MoS2薄膜。 采用磁控濺射MoS2/WS2復(fù)合靶材濺射制備了MoS2/WS2納米復(fù)合薄膜,通過形貌分析和性能檢測,結(jié)果表明:濺射的MoS2/WS2復(fù)合薄膜的最佳工藝參數(shù)為:濺射氣壓4.0Pa,濺射功率為150W。所制備的MoS2/WS2復(fù)合薄膜的表面形貌與純MoS2薄膜相似,但是顆粒比純MoS2薄膜要小

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論