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文檔簡介
1、針對目前對近紫外(n-UV)LED用白光發(fā)光材料和高發(fā)光效率納米X射線發(fā)光材料的迫切需求,本論文進行了摻雜型硫化鋅白光發(fā)光材料、X射線激發(fā)材料的合成和發(fā)光特性研究。主要工作包括:
采用水熱法直接合成了高發(fā)光強度的類球形ZnS:Cu,Al納米熒光粉。制備的納米晶為純立方相結(jié)構(gòu),其粒子尺寸約為15nm,且分散性較好。系統(tǒng)研究了在343nm激發(fā)下,不同摩爾比的nS/nZn、nCu/nAl及表面活性劑對清洗樣品和未清洗樣品的光致發(fā)
2、光(PL)光譜的影響。實驗結(jié)果表明,激活劑濃度不變而改變ns/nZn,摩爾比時發(fā)光強度顯著增強,同時未清洗樣品的PL強度均比清洗樣品的強,且未清洗樣品的PL強度增強的比值在低的nS/nZn時更顯著。另外,PL強度還與是否添加表面活性劑有關(guān),說明其PL強度與納米材料的表面態(tài)有很大的關(guān)系。在我們的實驗中,用343nm紫外光激發(fā)時,nCu/nZn,nS/nZn,nCu/nAl分別為0.0003,3和0.5時未清洗樣品的發(fā)光最強,此時于室內(nèi)照明
3、條件下可觀察到明亮的綠光。
借助X射線能譜(EDX)和原子吸收光譜儀,研究了樣品中S,Zn和Cu的含量并詳細研究了在nS/nZn=3時改變nCu/nZn,nCu/nAl摩爾比對ZnS:Cu,Al樣品在375nm紫外光激發(fā)下PL光譜的特性。結(jié)果證明存在大量Zn空缺,Cu離子經(jīng)過水熱處理后已摻入到ZnS基體中。PL光譜特性為:樣品的激發(fā)譜為寬帶譜,利用370-410nm之間任意波長的光激發(fā)時,發(fā)射譜均為寬帶譜,且它們基本重合。
4、表明此材料作為近紫外(370-410nm)發(fā)光二極管((n)-UV(370-410nm)LED)用熒光粉及全色熒光粉具有很大的應(yīng)用潛力。樣品在375nm激發(fā)下全色寬帶發(fā)射譜是460,510和576nm帶光譜的高斯疊加。當(dāng)nCu/nZn,nCu/nAl分別為3x10-4和2時,于室內(nèi)照明條件下肉眼可觀察到白色發(fā)光。
采用低溫水熱法結(jié)合熱處理工藝成功制備了ZnS:Cu,Al、ZnS:Au,Cu和ZnS:Cu,Tm三種超細X射線
5、發(fā)光粉材料。研究結(jié)果表明:1)水熱法直接制備的ZnS:Cu,Al的PL和X射線激發(fā)發(fā)光(XEL)光譜均為寬帶譜,在nCu/nZn,nCu/nAl分別為3×10-4和0.5時PL和XEL光譜強度最大,XEL峰值在470nm處。在此條件下,水熱處理3h直接合成的納米晶在氬氣保護下于800℃退火1h后樣品的XEL發(fā)光進一步增強。XEL光譜強度約是退火前樣品的8倍,此時峰值波長在520nm,團聚后粒徑為200~500nm的類球形六方相結(jié)構(gòu)。發(fā)光
6、強度增強,但粒徑很小,對提高成像系統(tǒng)分辨率非常有意義。通過比較樣品的XEL和PL光譜,討論了XEL和PL光譜的發(fā)光機理和激發(fā)機制及退火對其特性的影響;2)水熱法直接制備的ZnS:Au,Cu的PL和XEL光譜均為寬帶譜,在nCu/nZn,nCu/nAl分別為3×10-5和0.5時PL和XEL光譜強度最大,XEL峰值在459nm處。在此條件下,水熱處理12h直接合成的納米晶在氬氣保護下于1000℃退火1h后樣品的XEL發(fā)光最強,此時其兩個峰
7、值分別位于445和513nm,且與未退火前相比XEL強度增強了10倍左右。團聚后尺寸為1~2μm的類球形六方相結(jié)構(gòu)。另外,在未經(jīng)退火的ZnS:Cu,Al和ZnS:Au,Cu納米材料中,均觀察到隨著Cu2+離子摩爾比的增大,XEL光譜峰值的紅移現(xiàn)象;3)通過研究水熱處理時間對ZnS:Cu,Tm納米晶的結(jié)構(gòu)、形貌、XEL光譜的影響,發(fā)現(xiàn)隨著水熱處理時間的延長,樣品的尺寸增大且結(jié)晶性增強,但是其XEL發(fā)光強度卻降低。分析認(rèn)為這一異?,F(xiàn)象可歸因
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