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1、近年來,ZnO作為新一代Ⅱ-Ⅵ族氧化物半導(dǎo)體材料,廣泛應(yīng)用于藍(lán)光-紫外發(fā)光二極管及半導(dǎo)體激光器的研究.但是,同其他寬禁帶半導(dǎo)體相似,ZnO的p型摻雜非常困難,嚴(yán)重限制了ZnO作為新一代半導(dǎo)體材料的廣泛應(yīng)用.本文系統(tǒng)地闡述了p型ZnO摻雜困難的原因,并從這些困難出發(fā),預(yù)言并得到了幾種改善ZnO p型特性的方法.
(1)采用基于DFT理論的第一性原理方法模擬并計(jì)算了Ag,N摻雜纖鋅礦ZnO的晶體結(jié)構(gòu)和電子結(jié)構(gòu),對(duì)Ag,N各自摻
2、雜及二者共摻雜ZnO體系的晶格常數(shù),原胞體積,雜質(zhì)形成能,帶隙結(jié)構(gòu)及DOS分布等進(jìn)行了深入的研究。研究的結(jié)果顯示,摻N和摻Ag都能夠使ZnO體現(xiàn)出p型,但摻雜后的特性又有所不同,通過對(duì)Ag-N共摻雜的模擬與計(jì)算我們發(fā)現(xiàn),共摻在一定程度上實(shí)現(xiàn)了二者結(jié)構(gòu)和性質(zhì)上的互補(bǔ),且相比于各自的摻雜來講,共摻能夠形成更低的受主能級(jí),更高的受主態(tài)密度,此外,共摻使空穴分布的局域性降低,在一定程度上改善了ZnO的p型特征,并且隨著摻雜的濃度的提高,共摻體現(xiàn)
3、的優(yōu)越性更為明顯,因此有望實(shí)現(xiàn)p型ZnO更高的載流子濃度。
(2)采用基于密度泛函理論的第一性原理贗勢(shì)法對(duì)B缺陷在ZnO中的存在形式進(jìn)行了理論分析,對(duì)B-N共摻雜ZnO體系的晶格結(jié)構(gòu),雜質(zhì)形成能,雜質(zhì)態(tài)密度及電子結(jié)構(gòu)進(jìn)行了系統(tǒng)的研究。研究表明,B缺陷在摻雜體系中主要以BZn的形式存在,這種結(jié)構(gòu)會(huì)引起相應(yīng)的晶格收縮;研究發(fā)現(xiàn)與以往的N摻雜相比,共摻結(jié)構(gòu)具有更低的雜質(zhì)形成能,更高的化學(xué)穩(wěn)定性,因此更加適合摻雜,此外,共摻能夠形
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