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文檔簡介
1、本文著重介紹了聚合物熱光開關(guān)制作中的關(guān)鍵技術(shù):聚合物薄膜平面波導(dǎo)的制作,主要內(nèi)容如下:(1) 介紹了聚酰亞胺材料的合成原理,并詳細(xì)描述了材料的制備過程。(2) 通過旋涂法制備了用于波導(dǎo)制作的高性能聚合物薄膜。討論了部分工藝參數(shù),如溶液濃度、旋涂轉(zhuǎn)速、溶劑揮發(fā)性、吸水性等對薄膜質(zhì)量的影響。分析了可能造成薄膜缺陷的原因,并對薄膜的性能如薄膜厚度、折射率、紅外吸收特性和表面輪廓進行了測試以優(yōu)化旋涂工藝。(3) 通過磁控濺射在制得的聚合物
2、薄膜上沉積了金屬鋁層,簡單介紹了磁控濺射的工作原理。(4) 通過光刻在濺射出的鋁層上制作了微圖形,鋁層用90℃的濃磷酸腐蝕。詳細(xì)介紹了整個工藝過程,并分析了可能導(dǎo)致缺陷的各種因素,以提高光刻精度。(5) 利用ICP刻蝕技術(shù)在聚合物薄膜上制作了聚合物平面波導(dǎo),采用氧氣作為刻蝕氣體,鋁層作為金屬掩膜層。分析了刻蝕過程中各工藝因素的影響,利用臺階儀對制得的聚合物波導(dǎo)進行了測試,并介紹了ICP刻蝕的基本原理和我們使用的ICP-2B刻蝕設(shè)備的
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