太赫茲波操控技術(shù)與器件研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、隨著太赫茲科學(xué)的發(fā)展,太赫茲技術(shù)逐漸在頻譜,成像,國防以及通信領(lǐng)域的顯現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景。越來越多的領(lǐng)域開始重視起這門新興的學(xué)科。由于太赫茲科學(xué)起步較晚,對太赫茲波的有效操控是當(dāng)前技術(shù)的盲點,也是太赫茲研究的熱點。本論文主要從四個方面研究了對太赫茲波幅度和頻譜的操控:
   一.利用太赫茲時域頻譜技術(shù)(THz-TDS)研究了氧化釩(VOx)薄膜的半導(dǎo)體一金屬相變特性,尤其是硅基VOx薄膜的光致半導(dǎo)體一金屬相變特性。分析了不同波長

2、的連續(xù)光照射、飛秒脈沖激光照射等不同光激發(fā)方式下的硅基VOx薄膜對太赫茲波的光調(diào)制特性。
   二.通過數(shù)值模擬和實驗研究了復(fù)合型表面等離基元極化波(SPP)結(jié)構(gòu)的THz波濾波特性,采用唯象的分子模型理論對復(fù)合結(jié)構(gòu)的透射頻率隨結(jié)構(gòu)變化的現(xiàn)象進行了分析。并從理論和實驗上對復(fù)合結(jié)構(gòu)中蘊含的SPP模式間的耦合過程進行了驗證,根據(jù)實驗結(jié)果計算了SPP之間的耦合系數(shù)。
   三.結(jié)合硅基VOx薄膜的光調(diào)制特性和SPP結(jié)構(gòu)的濾波特性

3、,設(shè)計了VOx薄膜與金屬孔陣列的復(fù)合結(jié)構(gòu),VOx薄膜與金屬塊陣列的復(fù)合結(jié)構(gòu),以及硅基VOx微結(jié)構(gòu)陣列。并通過實驗檢測了這種雙功能器件的特性。通過模擬設(shè)計了幾種基于VOx薄膜和SPP結(jié)構(gòu)的器件,同時具有調(diào)制和濾波功能,實現(xiàn)了頻率可調(diào)的光控性能。
   四.把硅基VOx的光調(diào)制性質(zhì)應(yīng)用到TH-TDS中,作為太赫茲波的光控斬波器,取代傳統(tǒng)的機械馬達斬波器,成功測到了太赫茲脈沖的波形,并在理論上分析了該斬波器與傳統(tǒng)馬達斬波器的在測量太赫

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