蒙脫石制備插層復(fù)合材料及其性能研究.pdf

1、插層復(fù)合材料是近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一種新型復(fù)合材料,它是通過(guò)將具有不同性能的客體材料插入到主體材料內(nèi)制得的。它的構(gòu)筑單元和結(jié)構(gòu)的可調(diào)控性和多樣化,為其發(fā)展提供了廣闊的發(fā)展空間。蒙脫石是一種層狀的無(wú)機(jī)礦物,其良好的吸附性、離子交換特性使其廣泛應(yīng)用于插層復(fù)合材料的制備。
　　 本論文采用蒙脫石作為插層主體材料,頭孢拉定作為插層客體材料。采用溶液插層法來(lái)制備頭孢拉定/蒙脫石復(fù)合材料,該方法反應(yīng)條件溫和、操作簡(jiǎn)單易行、對(duì)設(shè)備要求低,可以保證

2、頭孢拉定在制備過(guò)程中不發(fā)生分解,不影響其藥效。本論文通過(guò)單因素實(shí)驗(yàn)法、正交設(shè)計(jì)法和響應(yīng)面設(shè)計(jì)法等來(lái)優(yōu)化實(shí)驗(yàn)工藝,對(duì)影響載藥量的實(shí)驗(yàn)因素(藥物初始濃度、反應(yīng)時(shí)間、反應(yīng)溫度等)進(jìn)行研究,確定出最佳制備工藝。
　　 通過(guò)X射線衍射(XRD)分析發(fā)現(xiàn):簡(jiǎn)單混合物的XRD圖譜兼有頭孢拉定和蒙脫石的特征峰,而插層復(fù)合材料的XRD圖譜上只顯示蒙脫石特征峰。采用鈉基蒙脫石和鈉化改性后的藥用蒙脫石制備的插層復(fù)合材料,其主晶面(001晶面)的層間距

3、隨著載藥量的增加而增大。傅立葉紅外光譜(FT-IR)中可以發(fā)現(xiàn):簡(jiǎn)單混合物的傅立葉紅外光譜中無(wú)明顯的官能團(tuán)結(jié)構(gòu)變化,但插層復(fù)合材料中卻出現(xiàn)官能團(tuán)譜帶的遷移。這說(shuō)明:簡(jiǎn)單混合無(wú)法使頭孢拉定插入到蒙脫石層間,溶液插層法使得頭孢拉定插入到蒙脫石的層間。蒙脫石、頭孢拉定、簡(jiǎn)單混合物及插層復(fù)合材料的熱分析結(jié)果說(shuō)明:簡(jiǎn)單混合物的失重率比插層復(fù)合材料大,主要是由于簡(jiǎn)單混合物中,頭孢拉定吸附在蒙脫石表面,而插層復(fù)合材料中,頭孢拉定插層進(jìn)入到蒙脫石層間。

4、
　　 藥物的緩釋性能主要是通過(guò)體內(nèi)釋放和體外釋放來(lái)進(jìn)行研究的。本論文中插層復(fù)合材料緩釋性能主要采用體外釋放的方式進(jìn)行研究,分別在37℃的人工胃液和人工腸液進(jìn)行連續(xù)釋放。通過(guò)比較頭孢拉定/蒙脫石與頭孢拉定膠囊、簡(jiǎn)單混合物的釋放曲線,結(jié)果發(fā)現(xiàn):頭孢拉定膠囊和簡(jiǎn)單混合物釋放迅速,其釋放行為不符合中國(guó)藥典關(guān)于緩釋制劑的要求。頭孢拉定/蒙脫石的釋放符合緩釋制劑的要求。通過(guò)零級(jí)、一級(jí)、Higuchi方程及Korsmeyer-peppas方