PDMS掩模制備與電解加工微小凹坑陣列試驗(yàn)研究.pdf

1、隨著科技發(fā)展的日新月異，表面織構(gòu)技術(shù)已經(jīng)在降低能耗，改善機(jī)械零件工作性能等工程領(lǐng)域發(fā)揮著不可或缺的作用。因此，如何實(shí)現(xiàn)低成本、高精度表面織構(gòu)的加工，已成為學(xué)術(shù)界競(jìng)相研究的熱點(diǎn)。
　　本文在原有掩模電解加工微小凹坑陣列的基礎(chǔ)上，提出了PDMS掩模電解加工方法，針對(duì)PDMS掩模的制各，提出了真空輔助模塑法，并進(jìn)行了相關(guān)試驗(yàn)研究，內(nèi)容主要涵蓋:
　　(1)開(kāi)展SU-8膠微柱體陣列光刻工藝試驗(yàn)，作為制備PDMS掩模的母模，研究了各參

2、數(shù)對(duì)試驗(yàn)結(jié)果的影響，提出在原始基底表面預(yù)涂一層BN308薄光刻膠，以提高SU-8膠微柱體的結(jié)合力，并進(jìn)行了對(duì)比試驗(yàn)研究，利用優(yōu)化所得工藝參數(shù)獲得平均直徑/中心距為100.7μm/500μm，高度為250μm的SU-8膠微柱體陣列。
　　(2)開(kāi)展真空輔助模塑法制作PDMS掩模工藝試驗(yàn)，研制了真空輔助模塑法成形模具，研究了固化溫度與時(shí)間，以及絕對(duì)真空度對(duì)PDMS掩模質(zhì)量的影響，利用優(yōu)化所得參數(shù)獲得平均直徑/中心距為96μm/500μ