稀土配合物的合成、表征及摻雜氧化鋅的制備與性能研究.pdf

1、(1)稀土金屬氧化物薄膜由于較高的介電常數(shù),良好的絕緣性以及化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點而廣泛應(yīng)用于光,電,磁等領(lǐng)域。伴隨著其廣泛的應(yīng)用,各種制備技術(shù)也逐漸被研究來獲取稀土金屬氧化物薄膜,這些制備技術(shù)主要分為物理沉積,溶液沉積和化學(xué)氣相沉積三種。而在諸多的薄膜制備技術(shù)中,金屬有機化學(xué)氣相沉積(MOCVD)由于其操作簡單,工藝可控等優(yōu)點而成為薄膜制備技術(shù)的主流。MOCVD技術(shù)的關(guān)鍵是選擇具有合適的物理化學(xué)性能的金屬有機配合物前驅(qū)體。
　　 本

2、論文的工作是設(shè)計合成了2-乙?；?1,3-茚二酮縮對甲氧基苯胺,2-乙?；?1,3-茚二酮縮對甲基苯胺,2-乙?；?1,3-茚二酮縮苯甲酰肼,2-乙?；?1,3-茚二酮縮8-氨基喹啉四種希夫堿配體,并用這些希夫堿配體分別與稀土離子作用合成了新型的配合物。
　　 對制備的配體和配合物采用元素分析,IR,1H NMR,X-射線單晶衍射等手段進行表征,以確定其組成。最后,利用TG-DSC對所合成的配合物的熱穩(wěn)定性和分解機理進行了初步研

3、究。
　　 (2)氧化鋅薄膜具有六角纖鋅礦的晶體結(jié)構(gòu),是一種直接帶隙的寬禁帶半導(dǎo)體材料,室溫下的帶隙寬度為3.3 eV,激子束縛能高達60 meV,由于這些優(yōu)異的性質(zhì),使其具有廣泛的應(yīng)用,近年來受到越來越多研究者的注意,成為半導(dǎo)體領(lǐng)域里的一個研究熱點。
　　 本論文通過金屬有機希夫堿前驅(qū)體溶膠凝膠法在玻璃基片上通過旋涂法及500℃退火處理成功制備了Sn:ZnO薄膜(Sn摻雜濃度分別為4 at.％,6 at.％,8 at.