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1、可控?zé)岷司圩兡鼙灰暈?1 世紀(jì)最有前途的能源。實(shí)現(xiàn)可控?zé)岷司圩兡茏铌P(guān)鍵的問題之一就是關(guān)于―面向等離子體‖元件的研究。該元件要求材料兼具良好的耐高溫性和導(dǎo)熱性,而現(xiàn)有材料無法滿足其需要,可通過將現(xiàn)有的耐高溫材料和高導(dǎo)熱材料連接起來以實(shí)現(xiàn)目的。鎢具有高熔點(diǎn),可作為護(hù)甲材料;銅及其合金具有良好的導(dǎo)熱性,可作為冷卻材料。本文對(duì)W 表面Ni合金化及與Cu 合金TLp連接進(jìn)行了研究。
W 表面Ni 合金化的初步實(shí)驗(yàn)研究結(jié)果表明:W 表
2、面Ni 改性層組織為層狀,依次為Ni 沉積層(19 μm )、過渡層(2~3μm )及W基體。改性層的形成機(jī)理主要是通過等離子體轟擊工件表面形成空位,同時(shí)加熱工件表面,靶材上被轟擊出的活性Ni 原子通過空位擴(kuò)散和表面吸附形核分別形成擴(kuò)散層和沉積層。
選用成分為62Cu-38Mn-2Ni、62Cu-38Mn-5Ni、62Cu-38Mn-8Ni(質(zhì)量比)作中間層,成功地實(shí)現(xiàn)了W與Cu的TLp連接,其中中間層厚度為100μm,母
3、材W 表面經(jīng)過雙輝滲Ni 處理。結(jié)果表明:采用前兩種中間層獲得的連接接頭顯微組織致密且與母材界面結(jié)合良好,采用中間層62Cu-38Mn-8Ni 獲得的接頭與母材界面結(jié)合良好但顯微組織較疏松。采用三種中間層獲得的TLp接頭拉伸強(qiáng)度分別為112.5MPa、135.4MPa和130.8MPa。還發(fā)現(xiàn),中間層中Ni的含量從2wt%增加到5wt%,組織更加致密;當(dāng)Ni的含量提高至8%時(shí),組織又變得疏松。W 表面存在雙輝滲Ni 層可以使母材W 附近
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