成像法測量取樣光柵衍射效率研究.pdf_第1頁
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文檔簡介

1、本文圍繞成像法測量取樣光柵衍射效率均勻性,進行了理論分析和實驗研究。在ICF系統(tǒng)中,取樣光柵衍射效率是取樣光柵的重要指標,其測量對于取樣光柵制作和使用尤為重要,可以提供反饋信息。
   首先,提出了成像法測量取樣光柵衍射效率均勻性的新思路:合理設(shè)置測量結(jié)構(gòu),使觀察平面與衍射元件之間形成成像關(guān)系,采用面陣CCD在觀察平面上直接測量光強,并根據(jù)成像關(guān)系推導衍射元件的衍射光強分布。
   其次,給出了兩種符合成像法測量的光路結(jié)

2、構(gòu):“小孔成像”成像法和“物像共軛關(guān)系”成像法,對兩種光路結(jié)構(gòu)分別進行理論模擬和相應實驗驗證,分析得出“物象共軛關(guān)系”成像法更加適合采用小幅面面陣CCD進行取樣光柵衍射效率的成像測量。并且構(gòu)建了基于“物像共軛關(guān)系”成像法光路結(jié)構(gòu)的取樣光柵衍射效率測量光路。分析了其測量原理和取樣效率轉(zhuǎn)換關(guān)系,進而討論了測量光強的定標問題。
   然后,基于全息干涉原理設(shè)計滿足激光直寫制作精度要求的補償元件,推導出全息圖的條紋位置公式。利用牛頓迭代

3、算法搜索條紋分布,將條紋分布轉(zhuǎn)化為制作補償元件的像素點陣的bmp文件,用于圖形化激光直寫。
   最后,采用Zemax光學設(shè)計軟件,設(shè)計優(yōu)化了用于雙光束干涉方法制作補償元件的記錄參數(shù),并且全息曝光制作補償元件。搭建了成像法測量取樣光柵衍射效率的測量光路,測得了用于定性分析的結(jié)果,驗證了成像法測量取樣光柵衍射效率的可行性。
   與傳統(tǒng)逐點法測量取樣光柵衍射效率相比,新方法擯棄了傳統(tǒng)測量復雜的光學元件和測試光路;避免了逐點

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