雙面陽(yáng)極氧化鋁膜制備與表征.pdf

1、本文采用二次陽(yáng)極氧化方法制備出了有序度高、超厚度、性能優(yōu)異的雙面納米氧化鋁膜。采用了氫氧化鈉溶液作為室溫下的化學(xué)拋光液，代替?zhèn)鹘y(tǒng)的電化學(xué)拋光。通過對(duì)氧化電壓、電解液濃度、極板間距離、溫度等影響陽(yáng)極氧化鋁膜生長(zhǎng)過程因素的定量分析，采用場(chǎng)發(fā)射掃描顯微鏡等設(shè)備對(duì)膜進(jìn)行了表征，對(duì)比分析了在不同條件下制備出的氧化鋁膜結(jié)構(gòu)、孔徑大小、有序度等，確定了多孔氧化鋁膜的最佳制備工藝參數(shù)為：0.3mol/1的草酸溶液，氧化電壓恒定為40V，兩電極間距離確定

2、為4.5cm，氧化溫度為8℃。 對(duì)所制備的氧化膜進(jìn)行顯微表征和線掃描、EDS能譜分析，研究了雙面氧化鋁膜的結(jié)構(gòu)及形成機(jī)理，在氧化階段，以鋁基板為中心，氧化膜同時(shí)向兩邊對(duì)稱生長(zhǎng)，最后形成這種形貌尺寸一致的雙面結(jié)構(gòu)。確定了納米柱體的單面厚度可達(dá)70μm，遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過目前一般方法制備的50nm～500nm的單面氧化膜。 將氧化鋁膜在900℃的空氣中進(jìn)行熱處理，保溫半小時(shí)，對(duì)比未進(jìn)行熱處理的氧化鋁膜XRD圖譜，發(fā)現(xiàn)氧化膜由熱處理前的