PDMS基多孔皺紋的制備及其應(yīng)用.pdf

1、近年來包含有皺紋微結(jié)構(gòu)的多級結(jié)構(gòu),由于在生物傳感器、光電器件、微轉(zhuǎn)移等方面有廣闊的應(yīng)用前景而引起了人們廣泛的關(guān)注。目前,雖然有很多方法來制作不同的多級結(jié)構(gòu),但是如何快速、簡單、大規(guī)模的制備高級結(jié)構(gòu)仍是面臨的一大難題。
　　本文選取了聚二甲基硅氧烷(PDMS)為材料,氫氟酸為刻蝕劑,將化學(xué)濕法刻蝕與機(jī)械拉伸起皺法相結(jié)合,制備出孔洞與皺紋復(fù)合的高級結(jié)構(gòu)。通過調(diào)整刻蝕與拉伸起皺的順序以及拉伸起皺的處理方式實現(xiàn)了對于高級結(jié)構(gòu)的調(diào)控。系統(tǒng)考

2、察了制備過程中,等離子體和紫外臭氧曝光處理時間,拉伸率,刻蝕時間以及刻蝕溫度等實驗因素對高級結(jié)構(gòu)形成的影響,著重研究了通過二次曝光處理對皺紋圖案進(jìn)行加固,并利用光學(xué)顯微鏡和原子力顯微鏡進(jìn)行了詳細(xì)的表征。
　　其次,以制備的PDMS多孔皺紋薄膜作為彈性印章,探索了在微轉(zhuǎn)移方面的應(yīng)用。如以熒光染料羅丹明B為典型的轉(zhuǎn)移物,系統(tǒng)考察了接觸時間、負(fù)載重量、轉(zhuǎn)移環(huán)境以及基底預(yù)處理對于轉(zhuǎn)移效果的影響,利用光學(xué)顯微鏡進(jìn)行表征。結(jié)果表明印章表面的多