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文檔簡介
1、隨著微電子集成電路運行速度與封裝密度的增加,電子封裝材料對電路的性能和運行速度影響越加明顯。要滿足此封裝的需求,封裝材料應當具有低的介電常數和高的導熱系數。傳統(tǒng)聚合物電子封裝材料如環(huán)氧樹脂存在導熱不好,較脆等不足,所以研究具有優(yōu)良的耐熱絕緣性能和高的熱導率的聚合物成為關鍵。
為了大幅度提高環(huán)氧樹脂的導熱性能,并且得到綜合性能都比較好的環(huán)氧樹脂基復合材料,本文用氮化鋁和環(huán)氧樹脂作復合材料的增強體、基體,用硅烷偶聯劑對氮化鋁進
2、行表面處理,使填料表面形成一層單分子覆蓋膜改變其固有的親水性或親油性質,提高氮化鋁和環(huán)氧基體的的界面結合能,大幅度提高復合材料的導熱性能,并探明表面改性、導熱系數提高的微觀機理及宏觀參數變化與微觀機理的聯系。
用穩(wěn)態(tài)法對不同配比的復合材料的導熱性能進行測試,結果可以得出,氮化鋁顆粒的加入能夠很大程度地提高復合材料的導熱系數,當填料含量較小時,復合材料導熱系數的主要是聚合物的分子鏈振動,此時導熱系數僅為0.4W/m·K,當填
3、料含量提高到50%時,就能夠形成導熱“網絡”,此時復合材料的導熱系數可達到0.717W/m·K,同時也發(fā)現,當氮化鋁含量較高時,容易發(fā)生團聚,此時填料和基體的界面結合情況對材料的導熱系數影響比較大,界面結合越好,導熱系數就越高。用偶聯劑對氮化鋁進行改性后發(fā)現,當氮化鋁含量相同時,改性效果好的氮化鋁比沒改性或者改性效果差的氮化鋁填充環(huán)氧樹脂制得的材料導熱系數要高,當偶聯劑為4%,填料含量為30%時,復合材料的導熱系數可達到0.72W/m·
4、K,提高了3.6倍,填料含量為50%時,復合材料的導熱系數可達到1.222 W/m·K,提高了6倍。
被偶聯劑改性后的氮化鋁顆??梢蕴岣邚秃喜牧系膹澢鷱姸龋斉悸搫┖渴?%時,復合材料的彎曲強度比其他比例改性的效果要好;通過材料的斷口形貌分析表明,當材料的斷口形貌是河流細膩且致密,小平面臺階比較多時,材料的彎曲強度比較好,填料含量為30%時,復合材料的導熱系數可達到124.87Mpa,提高了1.4倍。
通過
5、對材料做X衍射分析,來研究材料內部氮化鋁顆粒與環(huán)氧樹脂基體的界面結合情況,通過分析可以發(fā)現,當硅烷偶聯劑含量是4%時,氮化鋁顆粒晶體的晶面間距比較大,這是因為此時氮化鋁顆粒與環(huán)氧基體的界面結合比較好,所以當復合材料固化收縮后產生內應力時,氮化鋁顆粒受到環(huán)氧基體比較大的拉應力,從而被迫膨脹,而當氮化鋁顆粒與環(huán)氧樹脂基體界面結合較差時,填料受到基體的拉應力減小,被迫膨脹就較小,所以晶面間距比較小,這與前面的實驗結果是一致的。
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