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文檔簡介
1、進(jìn)入21世紀(jì)以來,隨著微納加工工藝及數(shù)值模擬技術(shù)的提高,對金屬微結(jié)構(gòu)中表面等離子激元的研究取得了一系列令人矚目的進(jìn)展。表面等離子激元憑借其突破光學(xué)衍射極限、實現(xiàn)納米尺度光學(xué)聚焦的能力,在未來納米光通信和光子器件上具有良好的應(yīng)用潛力,正逐漸成為光子學(xué)最具吸引力的研究領(lǐng)域之一。當(dāng)前表面等離子光器件的發(fā)展處于初級階段,距離真正實現(xiàn)功能全面的集成納米光學(xué)系統(tǒng)尚有很多問題需要解決。制約其發(fā)展的主要因素有三點(diǎn):一是金屬材料的吸收損耗導(dǎo)致器件效率降低
2、,并且往往光場限域能力越強(qiáng),損耗也越明顯;二是現(xiàn)有表面等離子波導(dǎo)與傳統(tǒng)硅基電介質(zhì)波導(dǎo)模耦合效率較低,阻礙了兩者的高效互連;三是需要找到在很小的空間尺度內(nèi)靈活有效地操縱表面等離子波的方法。本文針對這幾個關(guān)鍵問題進(jìn)行了探索,并獲得了一些有意義的結(jié)果。
本研究主要內(nèi)容包括:⑴結(jié)合金屬納米線與硅基電介質(zhì)波導(dǎo)結(jié)構(gòu),提出一種復(fù)合表面等離子波導(dǎo),在保持普通納米線深亞波長光場尺寸的同時極大降低了傳輸損耗,從而顯著提升了包括交叉耦合、彎曲損耗以
3、及端面耦合效率在內(nèi)的波導(dǎo)集成化指標(biāo)。⑵理論分析了多模金屬-電介質(zhì)-金屬(MIM)波導(dǎo)內(nèi)的光學(xué)自成像效應(yīng),并通過數(shù)值模擬對理論結(jié)果進(jìn)行了驗證;在此基礎(chǔ)上設(shè)計了長度僅需數(shù)微米的超小型波分復(fù)用器件及定向耦合光路節(jié)點(diǎn),同時在低電壓下實現(xiàn)了對波導(dǎo)輸出端透射率的電光調(diào)制,大大降低了調(diào)制所需的能耗。⑶嚴(yán)格推導(dǎo)并求解了一維表面等離子晶格的電磁場本征值問題,對一維晶格的光子帶隙結(jié)構(gòu)及其結(jié)構(gòu)、波長依賴特性進(jìn)行了研究;引入多分量自洽迭代算法,在非線性條件下獲
4、得了包含多個頻率元素的多帶矢量表面等離子孤子,詳細(xì)分析了分量間相互作用對孤子尺寸、傳輸長度及動力學(xué)演化特性影響。⑷研究了晶格的表面效應(yīng)對表面等離子孤子的影響,在不提高非線性強(qiáng)度的前提下,通過打破晶格連續(xù)性獲得了0.1λ以下的深亞波長孤子態(tài),并對其存在條件和傳輸控制進(jìn)行了探討。⑸對二維表面等離子晶格內(nèi)的高階態(tài)孤子模式做了系統(tǒng)研究,利用耦合模理論揭示了亞波長尺度下偶極子,四極子和“項鏈孤子”的存在條件、模式特征及傳輸穩(wěn)定性,對這些孤子在不同
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