超像素調(diào)制數(shù)字光刻分辨率增強(qiáng)技術(shù)研究.pdf

1、無(wú)掩模數(shù)字光刻技術(shù)的發(fā)展，給光刻領(lǐng)域帶來(lái)了極大的創(chuàng)新。它的技術(shù)原理是在DMD微鏡上顯示數(shù)字掩模圖形，可以有效的避免掩模版制作昂貴的問(wèn)題。但是數(shù)字光刻技術(shù)在制作微光學(xué)器件的過(guò)程中，會(huì)出現(xiàn)制作結(jié)構(gòu)不工整，邊緣不光滑，光刻分辨率低下等問(wèn)題。鑒于以上原因，依據(jù) DMD數(shù)字光刻技術(shù)的原理特性，本論文提出了超像素調(diào)制光刻技術(shù)，主要研究了軸向超像素調(diào)制和多像素移動(dòng)調(diào)制兩種方法，目的在于提高數(shù)字光刻分辨率，改善數(shù)字光刻成像質(zhì)量。
　　1.軸向超像

2、素調(diào)制光刻方法，是基于圖形像素的細(xì)分，通過(guò) DMD單個(gè)微鏡在基底形成子像素，然后沿軸向移動(dòng)疊加子像素，即形成超像素陣列，從而提高光刻分辨率。具體技術(shù)思路是將 DMD上的掩模信息通過(guò)精縮物鏡投影到位于基底的光刻膠上，該基底是由步長(zhǎng)較小的步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)，DMD的掩模圖像是由計(jì)算機(jī)靈活控制，從而實(shí)現(xiàn)以軸向超像素的移動(dòng)方式進(jìn)行曝光調(diào)制。本論文首先介紹了該方法的技術(shù)原理，并進(jìn)行了原理仿真。再根據(jù)其技術(shù)特點(diǎn)，搭建了軸向超像素調(diào)制光刻系統(tǒng)，最后開(kāi)展了大

3、量驗(yàn)證性實(shí)驗(yàn)，證明了軸向超像素調(diào)制光刻方法改善數(shù)字光刻成像質(zhì)量的可行性。
　　2.多像素移動(dòng)調(diào)制光刻方法，是將灰階圖像通過(guò)精縮物鏡成像在涂敷了光刻膠的基底上，而基底與DMD平面成一定角度，通過(guò)移動(dòng)二維工件臺(tái)，并自由切換DMD上的顯示圖像，在基底上以多像素移動(dòng)的方法進(jìn)行曝光調(diào)制，目的是得到更小光刻分辨率的微結(jié)構(gòu)。這種方法是利用圖形多像素的細(xì)分原理，通過(guò)單個(gè)微鏡在基底形成相同大小的子像素，然后移動(dòng)疊加子像素形成多像素整列，從而改善成像