熱致變色薄膜材料的制備與輻射特性.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩75頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

1、隨著微小航天器的發(fā)展,其對器件輕量化的要求越來越高,傳統(tǒng)的MEMS百葉窗等熱控器件因其體積大、質(zhì)量重、結(jié)構(gòu)復(fù)雜等特點而難以應(yīng)用于微小衛(wèi)星。鈣鈦礦錳氧化物是一種熱致變色可變發(fā)射率材料,可以根據(jù)自身的溫度水平,自動調(diào)節(jié)輻射特性,起到主動智能控溫的作用,在航天領(lǐng)域有很大應(yīng)用前景。
  本文采用磁控濺射法在摻億氧化鋯(YSZ)單晶基片、硅(Si)單晶基片和石英玻璃表面制備鈣鈦礦錳氧化物L(fēng)a1-xAxMnO3(A=Ca, Sr)熱致變色薄膜

2、,濺射過程中調(diào)節(jié)濺射氣壓、氧分壓、濺射時間等參數(shù),分析薄膜材料的組份、基片和濺射條件等因素對薄膜沉積速率的影響。
  采用X射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)、和能譜儀(EDS)對樣品的晶體結(jié)構(gòu)、表面形貌、粗糙度、元素組成等物性進行測量,分析基片、濺射條件和薄膜材料組份對樣品上述物性的影響。XRD分析結(jié)果顯示在YSZ、Si基片和石英玻璃表面濺射的薄膜樣品都是單相鈣鈦礦結(jié)構(gòu),SEM測量顯示:當(dāng)薄膜

3、厚度較小時,表面光滑、平整、致密;當(dāng)厚度較大時,表面出現(xiàn)凹槽和粘附的顆粒,粗糙度變大。AFM的測量結(jié)果與SEM測量結(jié)果吻合。
  使用傅里葉紅外光譜儀在不同溫度下測量薄膜樣品的光譜反射率,進行積分計算獲得薄膜樣品在不同溫度下的發(fā)射率,分析基片、濺射條件和薄膜材料組份等因素對樣品發(fā)射率的影響。結(jié)果表明,YSZ和Si單晶基片上的薄膜樣品,氧分壓和濺射壓力對發(fā)射率變化有影響;當(dāng)膜厚低于“集膚深度”0.9μm時,發(fā)射率幾乎不隨溫度變化,當(dāng)

4、膜厚高于0.9μm時,發(fā)射率隨溫度升高而增大。YSZ基片上的La0.7Ca0.3MnO3、La0.8Sr0.2MnO3、La0.7Ca0.165Sr0.135MnO3薄膜樣品的發(fā)射率曲線接近,變化范圍較小,La0.7Sr0.3MnO3發(fā)射率變化范圍較大;Si基片上的La0.8Sr0.2MnO3、La0.7Ca0.3MnO3和La0.7Sr0.3MnO3薄膜樣品的發(fā)射率變化范圍依次減小。直接在石英玻璃上沉積La0.7Sr0.3MnO3薄膜

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論