電化學法深度處理低濃度貴金屬貧液的研究.pdf_第1頁
已閱讀1頁,還剩74頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權,請進行舉報或認領

文檔簡介

1、 西安建筑科技大學碩士學位論文電化學法深度處理低濃度貴金屬貧液的研究專 業(yè): 冶金工程碩 士 生:雷思明指導教師:宋永輝教授摘要低濃度貴金屬貧液的深度處理, 對貴金屬行業(yè)資源綜合利用及節(jié)能減排具有重要的意義。 本文以自制煤基電極材料為陰陽極, 采用電化學法深度處理某冶煉廠的低濃度貴金屬貧液, 重點研究了電化學處理過程影響因素、 工藝條件及反應機理。采用孔徑分布儀、電化學工作站、掃描式電子顯微鏡及能譜儀等對煤基電極材料的結(jié)構性能及電化學

2、反應前后極板表面負載情況進行分析表征。研究表明,當反應電壓為 1.6v、反應時間 6h、反應溫度為 50℃、極板間距10mm、處理 50mL 貴金屬貧液時,Pd 離子的去除率可以達到 99.9%,其他金屬離子也有一定的去除效果,處理后各金屬離子濃度均低于 0.5mg/L。正交實驗結(jié)果表明, 電化學處理過程的主要影響因素為反應時間, 其次為反應溫度及反應電壓。平行實驗結(jié)果表明,鈀離子的平均去除率為 99.32%。動力學研究結(jié)果表明,電化學

3、處理 Pd 離子的過程符合一級動力學模型,速率常數(shù)最大為 k=0.496s-1。煤基電極材料具有豐富的孔隙結(jié)構及較大的比表面積,其構成以微孔為主,貧液中大量穩(wěn)定存在的 PbCl42-在電極表面有著較強的附著能力,而在電極內(nèi)部孔道中擴散阻力較大。 電化學處理過程中貴金屬離子在電解沉積與電吸附的共同作用下得到有效去除。 陰極以金屬離子的電解沉積為主導, 而陽極主要進行的電吸附反應。隨反應的進行電解沉積反應逐漸終止而電吸附反應不受影響繼續(xù)進行

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論