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1、采用陽極氧化法可在金屬或合金表面原位生成規(guī)則的納米結(jié)構(gòu),該法作為一種簡(jiǎn)單快速制備納米材料的方法已成為國(guó)內(nèi)外的研究熱點(diǎn)。三元層狀碳化物Ti3SiC2除具有陶瓷的高熔點(diǎn)、高化學(xué)穩(wěn)定性和抗熱震性等性能外,還具有金屬的良好導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。本論文以TiC粉、Ti粉和Si粉為原料采用熱壓燒結(jié)制備出Ti3SiC2,進(jìn)而采用陽極氧化法,分別用 Ti3SiC2和 Ti作為陽極,石墨作為陰極, NH4F和乙二醇為電解液進(jìn)行陽極氧化,最終在 Ti3SiC2表
2、面制備出納米孔陣列,在 Ti表面制備出納米管陣列,研究了陽極氧化電壓、NH4F質(zhì)量分?jǐn)?shù)、含水量和氧化時(shí)間對(duì)納米陣列形成的影響,引入電化學(xué)電流-時(shí)間曲線測(cè)定的方法,對(duì)納米陣列的形成過程進(jìn)行監(jiān)控,并對(duì)陽極氧化Ti3SiC2和Ti制備納米陣列進(jìn)行了對(duì)比分析。
?。?)以TiC粉、Ti粉、Si粉為原料通過熱壓燒結(jié)制備出Ti3SiC2,其性能參數(shù)如下:顯氣孔率:0.15%,體積密度:4.60 g/cm3,抗彎強(qiáng)度:480.4 MPa,斷裂
3、韌性:6.36 MPa·m1/2,電導(dǎo)率:3.03?106 S?m-1,數(shù)據(jù)表明:熱壓燒結(jié)的Ti3SiC2試樣致密,導(dǎo)電性良好。
?。?)采用陽極氧化法在 Ti3SiC2表面制備出納米孔陣列,研究了陽極氧化電壓、NH4F質(zhì)量分?jǐn)?shù)和氧化時(shí)間對(duì)納米孔陣列形成的影響。結(jié)果表明:孔徑隨著氧化電壓的升高而增大,且隨著氧化時(shí)間的延長(zhǎng),更有利于制備出孔徑均勻的納米孔陣列;隨著NH4F質(zhì)量分?jǐn)?shù)從1.0wt%增大至2.0wt%,納米孔的徑向尺寸略
4、有增大,但并不明顯;Ti3SiC2試樣經(jīng)陽極氧化后除含有 Ti、Si、C元素外,還含有 O元素,且其以TiO2的形態(tài)存在。
?。?)采用陽極氧化法在 Ti表面制備出納米管陣列,研究了陽極氧化電壓、NH4F質(zhì)量分?jǐn)?shù)、含水量和熱處理溫度對(duì)納米管陣列形成的影響。結(jié)果表明:當(dāng)氧化電壓較小時(shí),納米管不規(guī)整,管徑也不均勻,但隨著氧化電壓的升高,納米管的管徑會(huì)逐漸增大;隨著NH4F質(zhì)量分?jǐn)?shù)從0.5wt%增大至1.5wt%,納米管內(nèi)徑略有增大,
5、但并不明顯,當(dāng)NH4F質(zhì)量分?jǐn)?shù)繼續(xù)增大至2.5wt%時(shí),管徑也相應(yīng)增大;未經(jīng)熱處理的TiO2納米管為無定型態(tài),因?yàn)榧{米管陣列很薄,所以 XRD譜圖中沒有出現(xiàn)典型的無定型衍射特征峰,但經(jīng)600℃退火處理后出現(xiàn)了新的衍射峰,較強(qiáng)衍射峰對(duì)應(yīng)的是銳鈦礦型 TiO2的特征衍射峰,較弱衍射峰對(duì)應(yīng)的是金紅石型TiO2的特征衍射峰,因此經(jīng)600℃退火處理后 TiO2納米管陣列轉(zhuǎn)變?yōu)殇J鈦礦型與金紅石型的混合晶相。
?。?)結(jié)合電化學(xué)電流-時(shí)間曲線
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