數(shù)字光刻制作微光學器件的評價研究.pdf

1、微光學是一門正在興起的學科領域，它是研究一維、二維和三維的小型化光學器件和系統(tǒng)的一門高技術。它與微電子學、微機械、微加工、信息科學、材料科學等學科相互滲透，為現(xiàn)代光學研究前言的一個重要分支?！耙淮笠恍　笔窍冗M光學制造技術的未來主要發(fā)展方向之一，微光學制造技術支撐微光學的發(fā)展，有可能為光學技術帶來革命性進展，使傳統(tǒng)光學系統(tǒng)實現(xiàn)微型化、陣列化和集成化，發(fā)展具有信息處理功能的集成光學組件。
　　目前，國內(nèi)外對微光學理論研究的重點主要放在

2、新型光學器件的理論分析和相位恢復算法的改進。制作技術的研究主要集中于灰度掩模技術、激光或電子束直寫技術、VLSI的套刻技術三個方面。由于用VLSI技術制作對準難度大、需要多次套刻、工序多，電子束直寫或激光直寫只適于單件制作且設備昂貴,因此，目前國內(nèi)外研究最有前途也是最多的微光學加工制造方法是灰度掩模法。
　　隨著微光學器件制作技術的不斷進步以及各種微結構的不斷出現(xiàn)，對制作系統(tǒng)誤差分析以及微光學器件的評價顯得尤為重要。
　　本

3、論文主要歸納總結了國內(nèi)外微光學器件及其評價方法的研究現(xiàn)狀，詳細介紹了針對微光學器件的檢測技術。對于用來制作微光學器件的數(shù)字光刻系統(tǒng)，介紹了一些重要的組成部分：光源照明系統(tǒng)，數(shù)字微鏡裝置DMD的結構、工作原理、特性，工件平臺以及精縮物鏡的結構和特性。在介紹了數(shù)字光刻系統(tǒng)的基礎上，進一步分析數(shù)字光刻系統(tǒng)的誤差和數(shù)字光刻實驗中的誤差，包括照明系統(tǒng)誤差，DMD芯片的刷新頻率，像素量化，像素“抖動”以及像素間產(chǎn)生的“黑柵”效應影響，光學系統(tǒng)，平臺